centrotherm独立的RTP系统c.RAPID 200是专为有多种工艺需求的研发及生产而开发的。其高性能、高灵活性、低成本等特点使其成为了快速热处理的最佳选择。
该设备可将晶圆放置在基板上或放置于专用密封盒子中，并在常压或真空环境下运行实现各类化合物半导体(如SiC 或 GaN)的工艺应用。
其控温不依赖于晶圆表面温度的表现是该RTP 解决方案的独特优势。基于红外辐射高温计的温度测量系统确保能进行低温和高温工艺。独立的加热灯控制结合具有预测功能的PID控制提供了极佳的热控制精度及重复性。
c.RAPID 200 配有全自动操作系统，有单腔和双腔两种版本，可配置高达4个花篮装载台。
