HORIZONTAL
Horizontalanlage für vielfältige Einsatzmöglichkeiten
Die centrotherm c.HORICOO 200 Horizontalanlage ist ein in der produktionserprobtes Prozesssystem, das sich mit seiner hohen Flexibilität sowohl für die Massen- und Mittelserienproduktion als auch für Forschung und Entwicklung eignet.
Es bietet eine zuverlässige Prozessfähigkeit und -leistung für eine Vielzahl an Anwendungen, wie Atmosphären- und Niederdruckdiffusion oder LPCVD-Prozesse. Die Prozessrohre können für verschiedene Anwendungen mit den entsprechenden Prozessanforderungen konfiguriert werden, wobei ein Ofen mit atmosphärischen, LPCVD- oder unterschiedlichen Rohren ausgestattet werden kann.
Alle Anlagen können mit integriertem Boot-Handling sowie einem integrierten Wafer-Transfersystem ausgestattet werden. Thermische Wechselwirkung zwischen einzelnen Prozessrohren werden durch wassergekühlte Heizkassetten minimiert. Das Soft-Landing-System garantiert die beladungsunabhängige Wiederholbarkeit der Wafer-Positionierung im Rohr. Die einfache Wartung bringt niedrige Betriebskosten und eine hohe Verfügbarkeit mit sich.
Prozesse
Atmosphärische Prozesse
- Nass- und Trockenoxidation (DCE, HCl)
- Diffusion (z.B. POCl3, BBr3)
- Annealing (H2, N2)
- Aktivierung (Annealing)
- Kontaktsintern
- Ausheilen
- Nitridbildung
- Silizidbildung
LPCVD-Prozesse
- Polysilizium und amorphes Silizium
- Dotiertes Polysilizium
- Siliziumnitrid
- Stressarmes Nitrid
- TEOS | PSG | BPSG
- LTO | HTO
- Oxynitrid
- SIPOS
Spezialanwendungen
- Niederdruck-Diffusion (POCl3)
- Gallium-Diffusion
- Aluminium-Vorbelegung/-Diffusion
Optionen
- Lift und Speicherplätze für Prozessboote
- Integrierter vollautomatischer Wafertransfer
- Flowbox
Vertrieb Halbleiter & Mikroelektronik
Tel. +49 7344 918 6794
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Features & Benefits
Modularer Aufbau für maximale Flexibilität
- Bis zu 5 übereinanderliegende Prozessrohre aus Quarz oder Siliziumcarbid
- Auswählbare Optionen für Prozessrohr-Konfigurationen
- Schnelle und problemlose Installation und Inbetriebnahme im Reinraum
- Verbesserte und SEMI-konforme Sicherheitskonzepte
Hochentwickelte Wasserkühlung
- Keine thermische Wechselwirkung zwischen einzelnen Prozessrohren
centrotherm CESAR II Software
- Moderne Bedienschnittstelle mit Touchmonitor
- Remote-Zugriff und -Wartung
- All-in-One Rohrsteuerung
- SEMI-konforme Rezeptverwaltung
- Intuitives und nutzerfreundliches GUI
Wafergrößen bis 200 mm
Hohe Prozessflexibilität
Niedrigste Gesamtbetriebskosten
