HORIZONTAL

Horizontalanlage für vielfältige Einsatzmöglichkeiten

Die centrotherm c.HORICOO 200 Horizontalanlage ist ein produktionserprobtes Prozesssystem, das sich mit seiner hohen Flexibilität sowohl für die Massen- und Mittelserienproduktion als auch für Forschung und Entwicklung eignet.

Es bietet eine zuverlässige Prozessfähigkeit und -leistung für eine Vielzahl an Anwendungen, wie Atmosphären- und Niederdruckdiffusion oder LPCVD-Prozesse. Die Prozessrohre können für verschiedene Anwendungen mit den entsprechenden Prozessanforderungen konfiguriert werden, wobei ein Ofen mit atmosphärischen, LPCVD- oder unterschiedlichen Rohren ausgestattet werden kann.

Alle Anlagen können mit einem integrierten Boot-Transport mit Zwischenspeicher sowie einem integrierten Wafer-Transfersystem ausgestattet werden. Äußere Einflüsse auf das Prozessrohr werden durch wassergekühlte Heizkassetten minimiert. Das Soft-Landing-System garantiert die beladungsunabhängige Wiederholbarkeit der Wafer-Positionierung im Rohr. Die einfache Wartung bringt niedrige Betriebskosten und eine hohe Verfügbarkeit mit sich.

Prozesse

Atmosphärische Prozesse

  • Nass- und Trockenoxidation (DCE, HCl)
  • Diffusion (z.B. POCl3, BBr3)
  • Annealing (H2, N2)
  • Aktivierung (Annealing)
  • Kontaktsintern
  • Ausheilen
  • Nitridbildung
  • Silizidbildung

LPCVD-Prozesse

  • Polysilizium und amorphes Silizium
  • Dotiertes Polysilizium
  • Siliziumnitrid
  • Stressarmes Nitrid
  • TEOS | PSG | BPSG
  • LTO | HTO
  • Oxynitrid
  • SIPOS

Spezialanwendungen

  • Niederdruck-Diffusion (POCl3)
  • Gallium-Diffusion
  • Aluminium-Vorbelegung /-Diffusion

Optionen

  • Lift und Speicherplätze für Prozessboote
  • Integrierter vollautomatischer Wafertransfer
  • Flowbox

Vertrieb Halbleiter & Mikroelektronik

Tel. +49 7344 918 6794
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ECSCRM
ECSCRM
Vinci International Convention Centre Tours, Frankreich

Features & Benefits

Modularer Aufbau für maximale Flexibilität

  • Bis zu 5 übereinanderliegende Prozessrohre aus Quarz oder Siliziumcarbid
  • Auswählbare Optionen für Prozessrohr-Konfigurationen
  • Schnelle und problemlose Installation und Inbetriebnahme im Reinraum
  • Verbesserte und SEMI-konforme Sicherheitskonzepte

Hochentwickelte Wasserkühlung

  • Keine thermische Wechselwirkung zwischen einzelnen Prozessrohren

centrotherm CESAR II Software

  • Moderne Bedienschnittstelle mit Touchmonitor
  • Remote-Zugriff und -Wartung
  • All-in-One Rohrsteuerung
  • SEMI-konforme Rezeptverwaltung
  • Intuitives und nutzerfreundliches GUI
Wafergrößen bis 200 mm

Wafergrößen bis 200 mm

Hohe Prozessflexibilität

Hohe Prozessflexibilität

Niedrigste Gesamtbetriebskosten

Niedrigste Gesamtbetriebskosten

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