Die centrotherm c.HORICOO 200 Horizontalanlage ist ein in der produktionserprobtes Prozesssystem, das sich mit seiner hohen Flexibilität sowohl für die Massen- und Mittelserienproduktion als auch für Forschung und Entwicklung eignet.

Es bietet eine zuverlässige Prozessfähigkeit und -leistung für eine Vielzahl an Anwendungen, wie Atmosphären- und Niederdruckdiffusion oder LPCVD-Prozesse. Die Prozessrohre können für verschiedene Anwendungen mit den entsprechenden Prozessanforderungen konfiguriert werden, wobei ein Ofen mit atmosphärischen, LPCVD- oder unterschiedlichen Rohren ausgestattet werden kann.

Alle Anlagen können mit integriertem Boot-Handling sowie einem integrierten Wafer-Transfersystem ausgestattet werden. Thermische Wechselwirkung zwischen einzelnen Prozessrohren werden durch wassergekühlte Heizkassetten minimiert. Das Soft-Landing-System garantiert die beladungsunabhängige Wiederholbarkeit der Wafer-Positionierung im Rohr. Die einfache Wartung bringt niedrige Betriebskosten und eine hohe Verfügbarkeit mit sich.