
PECVD
应用于太阳能电池膜层沉积的高产能PECVD设备
全球装机量超过1250台,centrotherm 的PECVD 平台 c.PLASMA 在太阳能电池钝化和抗反射涂层领域拥有技术领先地位,为行业树立了新标杆。该系统集高产能、优异工艺性能及低运营成本于一体,可确保在不同的生产负荷和工艺顺序下平稳运行。
针对不同尺寸的硅片、产能及产量,centrotherm主要提供有两种配置。
除了用于166mm 硅片的5-管设备外,centrotherm 还推出了新一代 c.PLASMA X,推动了光伏产业的发展。基于久经验证的平台,它为高产能设置了新标准。10管设计同样为 210mm 的硅片提供了最大灵活性和系统可用性。最值得称道的是,它将TMA供应柜和真空泵集成在设备内部,从而显著节省了占地面积。
工艺
PECVD 工艺
- 氮化硅 (SiNx)
- 氧化铝 (AlOx)
- 氧化硅 (SiOx)
- 氮氧化硅 (SiONx)
- 多晶硅
进一步工艺
- 多层叠层
- 渐变层
光伏销售
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Renewable Energy India Expo
India Expo Centre | Greater Noida, India特点&优点
行业领先的PERC太阳能电池钝化技术
- 在AlOx厚度为4-10nm时,AlOx/SiNx叠层沉积具有极好的钝化效果
- 只需改变工艺气体,即可一步完成AlOx/SiNx叠层沉积
- 各管自由切换工艺配方
拥有最大工艺灵活性的最佳抗反射涂层
- SiNx层具有优异的氢钝化效果
- 渐变和多层膜可提高更宽波段的减反射效果
- 效率提升,外观优化
- 优异的表面覆盖均匀性
- 适用于单晶和多晶太阳能电池的生产
晶圆尺寸达210mm
Direct plasma deposition
工艺灵活性高