PECVD

应用于太阳能电池膜层沉积的高产能PECVD设备

全球装机量超过1250台,centrotherm 的PECVD 平台 c.PLASMA 在太阳能电池钝化和抗反射涂层领域拥有技术领先地位,为行业树立了新标杆。该系统集高产能、优异工艺性能及低运营成本于一体,可确保在不同的生产负荷和工艺顺序下平稳运行。

针对不同尺寸的硅片、产能及产量,centrotherm主要提供有两种配置。

除了用于166mm 硅片的5-管设备外,centrotherm 还推出了新一代 c.PLASMA X,推动了光伏产业的发展。基于久经验证的平台,它为高产能设置了新标准。10管设计同样为 210mm 的硅片提供了最大灵活性和系统可用性。最值得称道的是,它将TMA供应柜和真空泵集成在设备内部,从而显著节省了占地面积。

工艺

PECVD 工艺

  • 氮化硅 (SiNx)
  • 氧化铝 (AlOx)
  • 氧化硅 (SiOx)
  • 氮氧化硅 (SiONx)
  • 多晶硅

进一步工艺

  • 多层叠层
  • 渐变层

光伏销售

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SNEC PV Power Expo
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特点&优点

行业领先的PERC太阳能电池钝化技术

  • 在AlOx厚度为4-10nm时,AlOx/SiNx叠层沉积具有极好的钝化效果
  • 只需改变工艺气体,即可一步完成AlOx/SiNx叠层沉积
  • 各管自由切换工艺配方

拥有最大工艺灵活性的最佳抗反射涂层

  • SiNx层具有优异的氢钝化效果
  • 渐变和多层膜可提高更宽波段的减反射效果
  • 效率提升,外观优化
  • 优异的表面覆盖均匀性
  • 适用于单晶和多晶太阳能电池的生产
晶圆尺寸达210mm

晶圆尺寸达210mm

Direct plasma deposition

Direct plasma deposition

工艺灵活性高

工艺灵活性高

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