c.E1550

E1550: Horizontale Wafer-Prozessanlage
E1550: Horizontale Wafer-Prozessanlage

Horizontalofen für Pilotlinien

Der centrotherm c.E1550 Horizontalofen ist für die Produktion von Klein- und Mittelserien bei hoher Prozessflexibilität und -leistung geeignet. Der Ofen ist mit bis zu 4-Etagen-Quarz- oder SiC-Prozessrohren für Wafergrößen bis 300 mm ausgestattet.

Mit seinen niedrigen Wartungs- und Betriebskosten und der kleinen Stellfläche eröffnet der c.E1550 sehr gute Möglichkeiten zur kosteneffizienten Produktion.

Features

  • Geeignet für atmosphärische sowie PECVD- und LPCVD-Prozesse
  • Prozessspezifische Kammeroptionen in 3- oder 4-Etagen-Ausführung wählbar
  • Flatzone 600mm
  • Fortschrittliches Wasser-Kühlsystem zur Vermeidung gegenseitiger Beeinflussung der Prozessrohre
  • Modularer Aufbau zur schnellen Installation und Inbetriebnahme

 

Prozesse

  • Annealing
  • Diffusion
  • Oxidation
  • LPCVD
  • PECVD

Optionen

  • Integrierter Lift zum automatisierten Bootshandling
  • Integrierte Bootsspeicher zur Pufferung und Kühlung der Prozessboote
  • Vollautomatisches Wafer-Transfer-System mit Cassette-to-Cassette Handling
  • Fast-Cool-System