c.PLASMA X PECVD-Anlage

c.PLASMA X PECVD Anlage
PECVD Graphitboot
Antireflex-Beschichtung und Passivierung von Solarzellen

Rohranlage für Passivierung und Nitridbeschichtung in der Solarzellenproduktion

centrotherm ist der Weltmarktführer im Bereich der plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD) für Passivierungs- und Antireflexbeschichtungsprozesse in der Solarzellenproduktion.

Die revolutionäre c.PLASMA X PECVD-Rohranlage wird die PV Industrie verändern. Basierend auf der erprobten centrotherm PECVD-Plattform mit mehr als 1000 weltweit installierten Anlagen setzt sie neue Standards in Sachen Durchsatz. Die Anlage verbindet eine hervorragende Prozessleistung mit niedrigen Betriebskosten.

Das neue 10-Rohr Konzept bietet wie ihre Vorgängermodelle maximale Flexibilität und Anlagenverfügbarkeit. Zusätzlich bringt die Anlage durch die integrierte TMA-Versorgung und Vakuumpumpen eine beachtliche Einsparung der Stellfläche mit sich. Große Vorteile weist die Rohranlage hinsichtlich ihrer Flexibilität bei schwankender Produktionslast sowie durch den fortlaufenden Betrieb bei Wartung oder Abschaltung einzelner Prozessrohre auf.

Features

  • Exzellente Passivierungseigenschaften
  • Integrierte Oberflächenkonditionierung (gute Schichtadhäsion und Vermeiden von Blistering)
  • Variable Prozesssequenzen für Multi- und Graded-Layer
  • Hohe Verfügbarkeit durch Redundanz und kurze Taktzeiten
  • 10 Quarzrohr-Reaktoren (optional: 5-Rohr Version)
  • Vollautomatischer Boottransport
  • Wasser-Kühlsystem vermeidet eine gegenseitige thermische Beeinträchtigung der Prozessrohre
  • Modularer Aufbau ermöglicht einfache Installation und Inbetriebnahme sowie eine Integration in bestehende Produktionslinien

Prozesse

  • Siliziumnitrid (SiNx) PECVD
  • Siliziumoxid (SiOx) PECVD
  • Siliziumoxinitrid (SiONx) PECVD
  • Aluminiumoxid (AlOx) PECVD
  • Multi-Layer
  • Weitere Prozesse auf Anfrage