c.PLASMA X PECVD-Anlage

c.PLASMA X
c.PLASMA
PECVD Graphitboot

Der Industriemaßstab für PECVD-Prozesse in der Solarzellenproduktion

Mit bereits mehr als 1250 weltweit installierten Anlagen ist die centrotherm PECVD-Plattform c.PLASMA die führende Technologie und der Industriestandard für die Passivierung und Antireflexbeschichtung von Solarzellen. Das System kombiniert auf einzigartige Weise hohen Durchsatz, hervorragende Prozessleistung und niedrige Gesamtbetriebskosten.

centrotherm bietet zwei Hauptkonfigurationen, die sich in Wafergröße, Kapazität und Durchsatz unterscheiden.

Neben der 5-Kammer-Version für Wafer bis zu 166 mm präsentiert centrotherm mit c.PLASMA X die nächste Generation für ein neues Kapitel in der PV-Industrie. Basierend auf der bewährten Plattform, setzt sie neue Maßstäbe für höchsten Durchsatz. Die 10-Rohr-Anlage bietet die gleiche maximale Flexibilität und Systemverfügbarkeit für Wafergrößen bis 210 mm. Darüber hinaus bietet es durch die Integration von TMA-Versorgung und Vakuumpumpen wesentliche Einsparungen bei der Stellfläche. Sie gewährleistet einen reibungslosen Betrieb bei unterschiedlichen Produktionslasten und Prozesssequenzen.

Features

  • Nitridschichten bieten hervorragende Wasserstoffpassivierung
  • Stapel- und mehrlagige Schichten für verbesserte Antireflexschicht im breiten Wellenlängenbereich
  • Wirkungsgradsteigerung und verbessertes Erscheinungsbild der Zellen
  • AlOx/SiNx-Stapelabscheidung mit hervorragenden Passivierungseigenschaften bei Dicken von 4 - 10 nm
  • AlOx/SiNx-Stapel wird in einem Run durch Veränderung der Prozessgase abgeschieden
  • Einfache Stapelmodifizierung durch Rezeptänderung
  • Anwendbar für mono- und multikristalline Solarzellen
  • Hervorragend homogene Oberflächenbedeckung

Prozesse

  • Siliziumnitrid (SiNx) PECVD
  • Siliziumoxid (SiOx) PECVD
  • Siliziumoxinitrid (SiONx) PECVD
  • Aluminiumoxid (AlOx) PECVD
  • Multi-Layer
  • Weitere Prozesse auf Anfrage