c.PLASMA PECVD Anlage

c.PLASMA PECVD Anlage
PECVD Graphitboot
Antireflex-Beschichtung und Passivierung von Solarzellen

Rohranlage für Passivierung und Nitridbeschichtung in der Solarzellenproduktion

centrotherm ist der Weltmarktführer im Bereich der plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD) für Passivierungs- und Antireflexbeschichtungsprozesse in der Solarzellenproduktion.

Die vollautomatischen centrotherm PECVD-Prozesssysteme verbinden einen hohen Durchsatz mit exzellenter Prozesssicherheit und Reproduzierbarkeit. Die Rohranlagen ermöglichen eine hocheffiziente und homogene Antireflexbeschichtung durch Direktplasma-Abscheidung, die sich lediglich auf Wafer und Graphitboote beschränkt. Die Prozessrohre bleiben von einer parasitären Beschichtung weitestgehend verschont, so dass eine regelmäßige Reaktorreinigung entfällt und die Anlagenverfügbarkeit erhöht wird.

Neben der Nitridbeschichtung eignet sich die Rohranlage aufgrund ihrer hervorragenden Prozessflexibilität für die Realisierung hocheffizienter Solarzellenkonzepte, wie beispielsweise PERC- oder PID-freie Solarzellen.

Große Vorteile weist die Rohranlage hinsichtlich ihrer Flexibilität bei schwankender Produktionslast sowie durch den fortlaufenden Betrieb bei Wartung oder Abschaltung einzelner Prozessrohre auf. Die Anlage ist in verschiedenen Ausführungen verfügbar und lässt sich je nach Anforderungen an Prozesse, Kapazität und Automatisierungsgrad konfigurieren. Mit einer vergleichbar geringen Stellfläche und einer maximalen Ausnutzung der Prozessgase weist das centrotherm Anlagenkonzept die niedrigsten Gesamtbetriebskosten im Feld auf.

Features

  • Exzellente Passivierungseigenschaften
  • Integrierte Oberflächenkonditionierung (gute Schichtadhäsion und Vermeiden von Blistering)
  • Variable Prozesssequenzen für Multi- und Graded-Layer
  • Hohe Verfügbarkeit durch Redundanz und kurze Taktzeiten
  • Bis zu 4 unabhängig betriebene Quarzrohr-Reaktoren
  • Vollautomatischer Boottransport
  • Wasser-Kühlsystem vermeidet eine gegenseitige thermische Beeinträchtigung der Prozessrohre
  • Modularer Aufbau ermöglicht einfache Installation und Inbetriebnahme sowie eine Integration in bestehende Produktionslinien

Prozesse

  • Siliziumnitrid (SiNx) PECVD
  • Siliziumoxid (SiOx) PECVD
  • Siliziumoxinitrid (SiONx) PECVD
  • Aluminiumoxid (AlOx) PECVD
  • Multi-Layer
  • Weitere Prozesse auf Anfrage