c.VERTICOO Mini

Verticoo Mini: Vertikales Minibatch-Prozesssystem
Verticoo Mini: Vertikales Minibatch-Prozesssystem

Vertikal-Anlage für Minibatch-Anwendungen siliziumbasierter Halbleiter

c.VERTICOO Mini ist eine Einzelanlage, die speziell für thermische Wafer-Prozesse im R&D-Bereich sowie für die Kleinserien-Produktion konzipiert wurde.

Die besondere Bauweise von Prozesskammer und Heizsystem ermöglicht einen Betrieb bei Temperaturen bis zu 1100 °C. Aufgrund der geringen Batchgröße bietet der centrotherm c.VERTICOO Mini ein hohes Maß an Flexibilität für alle gängigen atmosphärischen- und Niederdruck-Verfahren. Das Konzept des c.VERTICOO Mini ermöglicht unseren Kunden, Entwicklungskosten durch das Prozessieren von maximal 50 Wafern in einem Batch zu verringern.

Die centrotherm Anlage zeichnet sich durch hohe Leistung, geringen Platzbedarf und niedrige Betriebskosten aus und ist nach Bedarf mit einem Dünnwafer-Handling ausgestattet. Sie bietet eine hohe Prozess-Flexibilität, die vor allem für die verschiedenen Verfahrensschritte in der Herstellung von Halbleiterelementen unabdingbar sind.

Anwendungen

  • MOS
  • Bipolar
  • Diskrete Halbleiter
  • Leistungshalbleiter
  • MEMS
  • Photovoltaikanwendungen
  • Optoelektronik

 

Prozesse

  • Atmosphärische Prozesse
  • Tempern
  • Oxidation
  • Diffusion
  • LPCVD
  • PECVD