Vertikalofen zur thermischen Waferbehandlung: c.VERTICOO 200
Vertikalofen für die Massenproduktion
Als Produktionstool mit hoher Durchsatzrate und Prozessflexibilität konzipiert, ist der c.VERTICOO 200 sowohl für atmosphärische- als auch für Niederdruck-CVD-Prozesse geeignet.
Das Einrohr-System mit Doppelboot-Handling ist auf minimale Handlingzeit sowie niedrige Betriebs- und Wartungskosten optimiert.
Features
- Bis zu 150 Prozesswafer je Batch
- Automatische Ausrichtung
- Doppelboot-Handling
- Wassergekühlte Heizkassette
- Geringer Platzbedarf
- Side-by-side Aufstellung möglich
- Interner Speicher für 20 Carrier
Prozesse
- Annealing
- Diffusion
- LPCVD
- Oxidation