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c.VERTICOO 200

c.VERTICOO 200: Vertikales Wafer-Prozesssystem
c.VERTICOO 200: Vertikales Wafer-Prozesssystem
c.VERTICOO 200: Vertikales Wafer-Prozesssystem

Vertikalofen für die Massenproduktion

Als Produktionstool mit hoher Durchsatzrate und Prozessflexibilität konzipiert, ist der c.VERTICOO 200 sowohl für atmosphärische- als auch für Niederdruck-CVD-Prozesse geeignet.

Das Einrohr-System mit Doppelboot-Handling ist auf minimale Handlingzeit sowie niedrige Betriebs- und Wartungskosten optimiert.

Features

  • Bis zu 150 Prozesswafer je Batch
  • Automatische Ausrichtung
  • Doppelboot-Handling
  • Wassergekühlte Heizkassette
  • Geringer Platzbedarf
  • Side-by-side Aufstellung möglich
  • Interner Speicher für 20 Carrier

 

Prozesse

  • Annealing
  • Diffusion
  • LPCVD
  • Oxidation