c.HORICOO 200
Horizontalofen für vielseitige Anwendungen
Der erprobte centrotherm c.HORICOO 200 ist eine sehr vielseitige Ofenplattform, die je nach Ausführung für die Massen- bis zur Kleinserienproduktion und Forschung & Entwicklung geeignet ist. Der Horizontalofen bietet eine zuverlässige Prozess- und Leistungsfähigkeit für eine vielzahl an Anwendungen, wie atmosphärische, Niederdruck- und LPCVD-Prozesse. Die Prozessrohre sowie die zugehörige Versorgung sind dementsprechend für unterschiedliche Anwendungen konfigurierbar (AP, Vakuum, gemischt).
Alle Modelle sind mit einem integrierten Boot-Handling für die Ablage von bis zu 8 Prozessbooten sowie einem integrierten Wafertransfer-System ausgestattet. Externe Einflüsse werden durch wassergekühlte Heizkassetten und einem Softlanding-System minimiert. Die kundendienstfreundliche Wartung sichert niedrige Betriebskosten und eine hohe Uptime.
Features
- Geeignet für atmosphärische sowie PECVD- und LPCVD-Prozesse
- Prozessspezifische Konfiguration einzelner Rohre des Horizontalofens
- Fortschrittliches Wasser-Kühlsystem zur Vermeidung gegenseitiger Beeinflussung der Prozessrohre
- Modularer Aufbau zur schnellen Installation und Inbetriebnahme
Prozesse
- Annealing
- Diffusion
- Oxidation
- LPCVD
- PECVD
Optionen
- Integrierter Lift zum automatisierten Bootshandling
- Integrierte Bootsspeicher zur Pufferung und Kühlung der Prozessboote
- Vollautomatisches Wafer-Transfer-System mit Cassette-to-Cassette Handling
- Fast-Cool-System