Horizontalofen für thermische Waferprozessierung: c.HORICOO 200

Horizontalofen für vielseitige Anwendungen

Der erprobte centrotherm c.HORICOO 200 ist eine sehr vielseitige Ofenplattform, die je nach Ausführung für die Massen- bis zur Kleinserienproduktion und Forschung & Entwicklung geeignet ist. Der Horizontalofen bietet eine zuverlässige Prozess- und Leistungsfähigkeit für eine vielzahl an Anwendungen, wie atmosphärische, Niederdruck- und LPCVD-Prozesse. Die Prozessrohre sowie die zugehörige Versorgung sind dementsprechend für unterschiedliche Anwendungen konfigurierbar (AP, Vakuum, gemischt).

Alle Modelle sind mit einem integrierten Boot-Handling für die Ablage von bis zu 8 Prozessbooten sowie einem integrierten Wafertransfer-System ausgestattet. Externe Einflüsse werden durch wassergekühlte Heizkassetten und einem Softlanding-System minimiert. Die kundendienstfreundliche Wartung sichert niedrige Betriebskosten und eine hohe Uptime.