c.E1200

E1200: Horizontale Wafer-Prozessanlage

Horizontalofen für Forschung und Entwicklung

Die F&E-Ausführung unserer Horizontalöfen wurde speziell für die kleinvolumige Produktion entwickelt und gewährleistet dabei hochqualitative Prozesswerte sowie ein hohes Maß an Prozessflexibilität.

Durch die minimale Stellfläche sowie die niedrigen Wartungs- und Betriebskosten eignet sich der c.E1200 bestens als hocheffiziente Laboranlage.

Features

  • Geeignet für atmosphärische sowie PECVD- und LPCVD-Prozesse
  • Prozessspezifische Kammeroptionen in 3- oder 4-Etagen-Ausführung wählbar
  • Flatzone 300mm
  • Fortschrittliches Wasser-Kühlsystem zur Vermeidung gegenseitiger Beeinflussung der Prozessrohre
  • Modularer Aufbau zur schnellen Installation und Inbetriebnahme

 

Prozesse

  • Annealing
  • Diffusion
  • Oxidation
  • LPCVD
  • PECVD

Optionen

  • Integrierter Lift zum automatisierten Bootshandling
  • Integrierte Bootsspeicher zur Pufferung und Kühlung der Prozessboote
  • Vollautomatisches Wafer-Transfer-System mit Cassette-to-Cassette Handling
  • Fast-Cool-System