Produktionsequipment

RTP-Anlage für Compound Semiconductor und Silizium

RTP-Anlage für Compound Semiconductor und Silizium

    Prozesse

    • Ionenimplantation durch Annealing
    • Silizidbildung (Ti, Co, Ni, Pt, etc.)
    • Oxidation
    • PSG-Reflow
    • Metallisierung durch Annealing
    • Weitere Anwendungen
Rapid Thermal Processing Equipment - RTO RTA RTP: c.RAPID 200