PECVD-Anlage
Rohranlage für die Nitridbeschichtung in der Solarzellenproduktion
Die centrotherm PECVD-Anlage verbindet einen hohen Durchsatz mit exzellenter Prozess-Performance. Die Anlage zeichnet sich durch eine kleine Stellfläche und geringe Gesamtbetriebskosten aus.
Große Vorteile weist die Batch-Anlage bei der Flexibilität bezüglich Produktionslast und Prozessfolge sowie dem fortlaufenden Betrieb bei Wartung oder Abschaltung einzelner Prozessrohre aus.
Die Anlage ist in verschiedenen Ausführungen erhältlich und lässt sich je nach Anforderungen an Prozesse, Kapazität und Automatisierungsgrad konfigurieren.
Die PECVD-Anlage ermöglicht eine hocheffiziente Antireflexbeschichtung durch Direktplasma-Abscheidung. Die Prozessrohre sind nur geringfügig von der Abscheidung betroffen, da sie sich auf die Graphitboote beschränkt. Die Reaktorreinigung muss dadurch lediglich alle 1 bis 2 Jahre erfolgen und hat keinen nennenswerten Einfluss auf die Anlagenverfügbarkeit.
- Exzellente Passivierung
- Integrierte Oberflächenkonditionierung (gute Schichtadhäsion und Vermeiden von Blistering)
- Variable Prozesssequenzen für Multi- und Graded-Layer
- Hohe Verfügbarkeit durch Redundanz und kurze Taktzeiten
- Bis zu 4 unabhängig betriebene Quarzrohr-Reaktoren
- vollautomatischer Boottransport
- Wasser-Kühlsystem vermeidet eine gegenseitige thermische Beeinträchtigung der Prozessrohre
- Modularer Aufbau ermöglicht einfache Installation und Inbetriebnahme
Prozesse
Empfohlene Anlagen Upgrades finden Sie hier.
Hinweis: Die centrotherm photovoltaics AG behält sich das Recht vor, die angegebenen Produktspezifikationen jederzeit und ohne Ankündigung zu ändern.
