Nitrid-Vorbelegungsanlage
Nitridanlage für die Vorbelegung von Prozessbooten nach der nasschemischen Reinigung
Die centrotherm Vorbelegungsanlage wurde für die Nitrid-Vorbeschichtung der Graphit-Prozessboote nach der nasschemischen Reinigung entwickelt. Der Einsatz dieser neuen Anlage steigert Durchsatz und Verfügbarkeit der PECVD-Produktionsanlage um 4 bis 6 Prozent.
Die Prozesskammer ist von der Nitrid-Abscheidung nur geringfügig betroffen, da sie sich auf die Graphitboote beschränkt. Die Reaktorreinigung muss dadurch maximal 1-2 Mal pro Jahr erfolgen und beeinflusst die Betriebszeit kaum.
- Steigerung der reinen Produktionszeit der PECVD-Anlage
- Niedrige Gesamtbetriebskosten und Capex
- Vollautomatisierter Prozess
- 1-Kammer-Anlage
- Manuelle Beladung durch Trolleys
- Für alle gängigen PECVD-Prozessboote
- Taktzeit 4 h
- kleine Stellfläche
Prozesse
- SiN Vorbelegung von PECVD-Prozessbooten
Hinweis: Die centrotherm photovoltaics AG behält sich das Recht vor, die angegebenen Produktspezifikationen jederzeit und ohne Ankündigung zu ändern.
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