Inline-PECVD-Anlage
Durchsatzoptimierte Inline-Anlage für die Nitridbeschichtung in der kristallinen Solarzellenproduktion
Bei der c.NITE Inline wurden die Vorteile unserer etablierten Batch-PECVD-Anlagen mit einer innovativen Inline-Technologie vereint.
Die Direktplasma-Abscheidung bietet hervorragende Passivierungseigenschaften sowie eine homogene Schichtdicke. Verglichen mit anderen am Markt verfügbaren Technologien führt dies zu einer Wirkungsgradsteigerung von 0,2 Prozentpunkten.
Als einzige am Markt verfügbare Inline-Anlage ist die c.NITE Inline für eine flexible Abscheidung von doppelten oder multiplen Antireflex-Beschichtungen geeignet. Der flexible Einsatz von Pre-Plasma für die Vorbehandlung der Waferoberfläche verbessert die Oberflächeneigenschaften nachhaltig. Mit der erprobten Direktplasma-Beschichtung von centrotherm sind keine regelmäßigen Ausfallzeiten für die Kammerreinigung nötig. Dies führt zu einer maximalen Uptime von in der Regel > 95%. Die c.NITE Inline ist mit mehreren Ladeschleusen und einer Aufheizkammer ausgestattet und gewährt eine hohe Auslastung mit maximaler Produktivität der Plasmakammer.
- 3- oder 4-Kammer-Ausführung (Aufheizen, 1 oder 2 PECVD-Prozesskammern, Abkühlen)
- 2 Förderbänder für vertikale Graphitboote
- Signifikant erhöhter Durchsatz
- Erprobte centrotherm PECVD Direktplasma-Technologie
- Keine regelmäßigen Ausfallzeiten und keine Kontaminierung aufgrund von Reaktorkammer-Reinigung
- Langer Dauerbetrieb (vergleichbar mit Batch-Anlage)
- Niedrige Gesamtbetriebskosten und Capex
- Kleine Stellfläche
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