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Schlüsselequipment

Batch-Wafer-Anlagen

Activator 150

Hochtemperaturofen für SiC- und GaN-Annealing sowie Graphenwachstum

Activator 150

Oxidator 150

Hochtemperatur-Oxidationsofen

Oxidator 150

Verticoo 200

Vertikalofen für die Massenproduktion

test1

E 2000

Horizontalofen für die Massenproduktion

E 2000 Horizontalofen

E 1550

Horizontalofen für die Pilot-Produktion

E 1550 Horizontalofen

E 1200

Horizontalofen für Forschung und Entwicklung

E 1200 Horizontalofen

Single-Wafer-Anlagen

RTP-Anlage: c.RAPID150

Rapid Thermal Processing für Compound Semiconductor und Silizium

RTP-Anlage

Packaging

VLO 180 & VLO 300

Vakuumlötofen für die Massenproduktion

VLO 300

VLO 20

Vakuumlötofen für Forschung und Entwicklung sowie Kleinserien

VLO 20

VLO 6 & VLO 12

Vakuumlötofen für Advanced Packaging sowie Forschung und Entwicklung

VLO 6

Nächster Messetermin

28. - 30.08.2012
NEPCON South China